布魯克Bruker IR300 納米級紅外光譜儀 尺寸圖標
名稱：光譜儀
品牌：
型號：
簡介：Dimension IconIR300? 大樣品納米紅外系統為半導體應用提供高速、高精度的納米級表征，具有無與倫比的功能、樣品大小和材料類型靈活性。通過結合專有的光熱紅外光譜和納米級AFM特性映射功能，IconIR300能夠在最廣泛的晶圓和...
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Dimension IconIR300? 大樣品納米紅外系統為半導體應用提供高速、高精度的納米級表征，具有無與倫比的功能、樣品大小和材料類型靈活性。通過結合專有的光熱紅外光譜和納米級AFM特性映射功能，IconIR300能夠在最廣泛的晶圓和光掩模樣品上進行自動晶圓檢測和缺陷識別。該系統顯著地將AFM-IR技術的應用擴展到半導體行業領域，超出了傳統技術的范圍。
IconIR300 建立在 Dimension IconIR 系統的突破性大樣品架構之上，可提供相關的顯微鏡和化學成像，以及增強的分辨率和靈敏度。該系統與自動化晶圓處理和先進的數據收集/分析軟件集成，可節省更多的時間和成本并提高生產效率。
面向半導體行業的卓越納米級紅外光譜和化學成像
只有尺寸圖標IR300系統提供：
全晶圓，無損測量200毫米和300毫米晶圓;
使用與FTIR庫直接相關的數據明確識別半導體晶圓和光掩模上的有機和無機納米污染物;
無損臺階高度測量和納米級材料性能映射;和
基于配方的自動化測量和 KLARF 文件支持，便于用戶訪問全面數據。
200mm和300mm晶圓的全晶圓測量
我們獲得專利的獨特AFM-IR模式套件和專有的峰值力攻絲?特性映射模式，以及IconIR300的大樣品架構，為最廣泛的半導體應用提供了最大的樣品靈活性。IconIR300 可對直徑達 300 mm 的樣品進行全晶圓測量，測量范圍廣，厚度和材料類型多種多樣，包括：
有機和無機樣品;
圖案化晶圓;
裸晶圓;
光掩模;和
數據存儲介質晶圓。
此外，表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能夠對沉積在半導體材料上的聚合物薄膜提供獨特、可靠的表面敏感化學測量。
尺寸 IconIR300 系統在 300 mm 晶圓缺陷檢測期間的內視圖
用于半導體應用的最高性能納米級紅外光譜
在PS-LDPE聚合物共混物的不同位點收集的高質量共振增強AFM-IR光譜，說明了高度的材料靈敏度和對納米級材料特性的更深入洞察
布魯克是基于光熱AFM-IR的納米紅外光譜的創新者，這是納米紅外社區的首選技術。
尺寸圖標IR300提供：
具有FT-IR相關性的高精度，豐富，詳細的光譜，實現對薄污染物的納米級測量;
各種先進的操作模式，支持工業和學術用戶的各種樣品測量;
最高性能的AFM-IR光譜，半導體應用中領先的納米紅外模式;和
對聚合物薄膜進行可靠的表面敏感化學測量。
晶圓和光掩模上的最高分辨率化學成像
Dimension IconIR300 行業領先的 AFM 性能和布魯克獲得專利的攻絲 AFM-IR 成像共同增強了我們納米紅外技術的空間分辨率和樣品可及性。
尺寸圖標IR300提供：
<10nm化學空間分辨率，用于對各種樣品類型進行成像，包括軟有機和無機污染物;
一致、可靠和高質量的數據;和
AFM-IR技術用于去除任何和所有機械偽影，確保只收集真實的化學成分。
PS-b-PMMA嵌段共聚物在攻絲AFM-IR模式下的高分辨率化學成像，顯示樣品形貌（a）;1730 （b） 處的紅外圖像;和 1492 cm-1 （c） 分別突出顯示 PMMA 和 PS。圖（b）中的黃色箭頭表示化學分辨率<10 nm。疊加圖像 （d） 捕獲合成圖。
用于識別納米污染物的高級自動化
IconIR300 配備了我們專有的 AutoMET? 軟件套件，可實現多級自動化，用于實時和離線對各種樣品類型的無損 AFM 測量。
關鍵自動化功能包括：
臺階高度研究以及納米級材料性能映射。
光學和AFM圖像模式識別;
尖端居中;
完整的晶圓或網格映射支持;
圖像放置精度在幾十納米以內;
全面、簡單的食譜編寫;和
KLARF文件導入功能，支持納米紅外自動化功能。
這些功能，加上具有高分辨率紅外光譜的納米級化學表征，使學術和工業用戶能夠克服半導體材料傳統缺陷識別的局限性。
高度圖像（a）和來自裸硅晶片上污染物的光熱AFM-IR光譜（b）。FTIR 庫的匹配結果將污染物標識為聚對苯二甲酸乙二醇酯。
表面靈敏模式采集表面涂層的光譜信息（綠色曲線），共振增強模式采集體積范圍的信息，包括表面涂層和下層體材料（褐色曲線）
采用布魯克最新專利表面靈敏模式，IconIR將探測深度從500納米降低到數十納米，無需制備截面，無縫結合高空間分辨率和高表面靈敏度。
