Accexp 顯微鏡LED曝光系統
名稱：系統集成
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簡介：◎ Accexp 顯微鏡LED曝光系統是不需要使用光罩就可以完成光刻的 Pattern 投影式光刻設備。 ◎ 使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀、即可把解像度數 m 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,進行光刻。 ◎...
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- 產品介紹
◎ Accexp 顯微鏡LED曝光系統是不需要使用光罩就可以完成光刻的 Pattern 投影式光刻設備。
◎ 使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀、即可把解像度數 μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,進行光刻。
◎ Pattern 可以透過專有軟件自由編輯，并且將制作完成的圖形進行保存。
◎ 將多種大小,形狀以及層狀在大氣環境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機價格來的便宜,方便性高.使用時也不需要制作Pattern Mask。
◎ 使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀、即可把解像度數 μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,進行光刻。
◎ Pattern 可以透過專有軟件自由編輯，并且將制作完成的圖形進行保存。
◎ 將多種大小,形狀以及層狀在大氣環境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機價格來的便宜,方便性高.使用時也不需要制作Pattern Mask。
Accexp 顯微鏡LED曝光系統用途
- 薄膜 FET 以及 Hole 效果量測用試料的電極形成
- 從石墨烯・鉬礦石取出薄片,進行礦石特性評價的電極形成
- 面向研究開發方向的模式形成
Accexp 顯微鏡LED曝光系統特點
- 因為是顯微鏡和 DLP 的組合,所以會比目前市場銷售的其他曝光系統便宜
- 用對物鏡頭的倍率,可以從微細模式到廣范圍的一次全部曝光
- 可安裝在所有的顯微鏡上（根據顯微鏡的規格要求）
- 可制作解像度 μｍ等級的形狀
- 光刻范圍：物鏡 5X：約 1.85mm×1.15mm
- 物鏡 100X：約 90μｍ×60μｍ
※曝光范圍為參考值
如果您對Accexp 顯微鏡LED曝光系統有興趣，歡迎致電長沙艾克賽普儀器設備有限公司：0731-84284278，我們的工程師將為你提供最佳的測試方案。Accexp是一家專注于儀器工控設備、測試方案系統集成的科技企業。作為專業的儀器儀表公司及測控集成ATE提供商，多年來堅持自主研發創新，結合引進代理各大知名品牌的優質儀器設備，致力于提供更科學智能的軟硬件測試方案。
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